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장비기본정보

기관명
(재)철원플라즈마산업기술원
장비명
노광기 (Mask Aligner)
모델명
MA-1200
제작사(국가)
대한민국
제작년도
2012
용도
분석
분류
기계가공
취득일
2012.06.15
장비설명
Photoresist 코팅 및 Soft Baking이 완료된 산업용 반도체 Wafer 조명소자용 ITO 기판의 Mask-기판 Align 제어 및 UV 광원 조사장비로 Contact mode와 Seperation mode로 노광 조건 선택 가능하다.
장비구성

성능
1. IHG-line 복합파장 Mercury-vapor UV lamp 1)I-line: λ=365.4nm H-line: λ=404.7nm G-line: λ=435.8nm2)9㎛대의 Resolution2. 9 inch mask holder1)기판-마스크 seperation (유격거리: 50㎛) 노광 방식 선택 가능3. Align Confirm monitor & Microscope4. Substrate Holder5. Mask Substrate 흡착용 Pump
NTIS NO
NFEC-2013-01-173716
E-Tube NO
1206-C-0074

장비이용안내

사용방법
기관의뢰
사용료유형
시간당
이용료
설치형태
고정
설치장소
(재)철원플라즈마기업지원연구동
장비상태
정상
담당자
신정철
연락처
0334529881
팩스
0334529883
사용방법
전화

주소: (24047) 강원도 춘천시 신북읍 신북로 61-10 강원테크노파크 기술혁신지원센터 TEL/033-248-5611
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